Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Waechtler, Thomas ; Oswald, Steffen ; Roth, Nina ; Jakob, Alexander ; Lang, Heinrich ; Ecke, Ramona ; Schulz, Stefan E. ; Gessner, Thomas ; Moskvinova, Anastasia ; Schulze, Steffen ; Hietschold, Michael
Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut 1: | Professur Smart Systems Integration | |
| Institut 2: | Professur Anorganische Chemie | |
| Institut 3: | Professur Analytik an Festkörperoberflächen | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | ISSN 0013-4651 | |
| URL/URN: | doi:10.1149/1.3110842 ; http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-200900734 | |
| Quelle: | In: Journal of The Electrochemical Society. - 156. 2009, 6, H453 - H459 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Atomlagenabscheidung , ALD , Kupferoxid , Beta-Diketonat , Kupfer(I) , Tantal , Tantalnitrid , Ruthenium , Siliziumdioxid , Metallisierung , ULSI | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Atomic Layer Deposition , ALD , Copper Oxide , Beta-Diketonate , Copper(I) , Tantalum , Tantalum Nitride , Ruthenium , Silicon Oxide , Metallization , ULSI |
