Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Haase, Micha ; Dittmar, Nils ; Kneidinger, Andrea ; Schuster, Patrick ; Bachhuber, Frederik ; Helke, Christian ; Reuter, Danny
Combining nano-scale imprint lithography and reactive ion etching to fabricate high-quality surface relief gratings
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | Proceedings of SPIE: 0277-786X ; Proceedings of SPIE, Progress in Biomedical Optics and Imaging: 1605-7422 | |
| DOI: | doi:10.1117/12.3002254 | |
| URL/URN: | https://doi.org/10.1117/12.3002254 | |
| Quelle: | SPIE OPTO, 2024, San Francisco, California (United States), 128980L. - SPIE, Digital Library, 2024. - Proceedings Advanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics XVII, Volume 12898 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Ätzen , Nanoimprint-Lithographie , Reaktives Ionenätzen , Gläser , Photoresist-Verarbeitung | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Etching , Nanoimprint lithography , Reactive ion etching , Glasses , Photoresist processing | |
Bemerkung: |
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