Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Schermer, Sebastian* ; Helke, Christian ; Reinhardt, M. ; Hartmann, Susanne ; Tank, Franz ; Wecker, Julia ; Heldt, Georg ; Voigt, A. ; Reuter, Danny
Characterization of negative tone photoresist mr-EBL 6000.5 for i-line stepper and electron beam lithography for the Intra-Level Mix & Match Approach
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, nicht referiert | |
| ISBN/ISSN: | Online 2590-0072 | |
| DOI: | doi:10.1016/j.mne.2024.100264 | |
| URL/URN: | https://doi.org/10.1016/j.mne.2024.100264 | |
| Quelle: | In: Micro and Nano Engineering. - Elsevier B.V. - 23. 2024, 100264 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Elektronenstrahllithographie , I-line Stepper-Lithographie , Mr-EBL 6000.5 , ILM&M , Photonische integrierte Schaltung | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | electron beam lithography , I-line stepper lithography , Mr-EBL 6000.5 , ILM&M , Photonic integrated circuit | |
| OA-Lizenz | CC BY 4.0 |
