Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Zimmermann, Sven ; Ahner, Nicole ; Blaschta, Frieder ; Schaller, Matthias ; Zimmermann, H. ; Rülke, H. ; Lang, N. ; Röpcke, J. ; Schulz, Stefan E. ; Gessner, Thomas
Influence of the additives argon, O2, C4F8, H2, N2 and CO on plasma conditions and process results during the etch of SiCOH in CF4 plasma
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut 1: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Institut 2: | Professur Smart Systems Integration | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0167-9317 | |
| URL/URN: | doi:10.1016/j.mee.2010.07.001 | |
| Quelle: | In: Microelectronic Engineering . - 2010, July (online) |
