Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Schermer, S.* ; Bieling, J. ; DeMoor, S. ; Zanzal, A. ; Reynolds, P. ; Helke, Christian ; Bonitz, Jens ; Voigt, A. ; Reuter, Danny
Optimizing reticle based high throughput i-line grayscale projection lithography for 3D structures with low surface roughness
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | ISSN Online: 2590-0072 | |
| DOI: | doi:10.1016/j.mne.2025.100319 | |
| URL/URN: | https://www.scopus.com/pages/publications/105014941075?origin=resultslist | |
| Quelle: | In: Micro and Nano Engineering. - Elsevier BV. - 28. 2025, 100319 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | 3D structures , High throughput , I-line grayscale , Projection lithography , Resist roughness , Stepper | |
| OA-Lizenz | CC BY 4.0 |
