Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Reinhardt, Markus ; Helke, Christian ; Schermer, Sebastian ; Hartmann, Susanne ; Voigt, A. ; Reuter, Danny
Development of an e-beam/i-line stepper intra-level mix and match approach with the photoresist mr-EBL 6000.5 for PIC related structures such as waveguides, ring resonators and coupling structures
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| DOI: | doi:10.1117/12.2675558 | |
| URL/URN: | api.semanticscholar.org/CorpusID:263705695, https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/12802/2675558/Development-of-an-e-beam-i-line-stepper-intra-level/10.1117/12.2675558.full#_=_ | |
| Quelle: | 38th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2023), 2023 June 19-21, Dresden (Germany), 8. - SPIE, 2023. - Proceedings of the SPIE ; 12802 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | e-beam/i-line stepper , mr-EBL 6000.5 , Resonatoren , Elektronenstrahl-Lithographie , Photoresist-Verarbeitung , Photonische integrierte Schaltungen | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | e-beam/i-line stepper , mr-EBL 6000.5 , Resonators , Electron beam lithography , Photoresist processing , Photonic integrated circuits |
