Ergebnis der Datenbankabfrage
Nr. | Titel | Autor | Jahr |
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1 | Development of an e-beam/i-line stepper intra-level mix and match approach with the photoresist mr-EBL 6000.5 for PIC related structures such as waveguides, ring resonators and coupling structures | Reinhardt, Markus et al. | 2023 |
2 | Impact of Dielectric and Copper Via Design on Wafer-to-Wafer Hybrid Bonding | Dubey, Vikas* et al. | 2023 |
3 | Intra-level mix and match lithography with electron beam lithography and i-line stepper combined with resolution enhancement for structures below the CD-limit | Helke, Christian* et al. | 2023 |
4 | High-resolution projection lithography for MEMS-applications using thick photoresist AZ 10XT | Schermer, Sebastian et al. | 2022 |
5 | Hochauflösende Projektions-Lithografie für die Herstellung von MEMS-Strukturen mit hohem Aspekt-Verhältnis und für Nano-Imprint-Lithografie Mastern für optische Gitter | Schermer, Sebastian et al. | 2022 |
Anzahl der Ergebnisseiten: | 1 |
Anzahl der Dokumente: | 5 |