Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Huber, Max* ; Hu, Xiao ; Zienert, Andreas ; Schuster, Jörg ; Schulz, Stefan E.
Modeling the temporal evolution and stability of thin evaporating films for wafer surface processing
Modellierung der zeitlichen Entwicklung und Stabilität von dünnen Aufdampfschichten für die Oberflächenbearbeitung von Wafern
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0021-9606 ; 1089-7690 | |
| DOI: | doi:10.1063/5.0097409 | |
| URL/URN: | https://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0097409 | |
| Quelle: | In: AIP The Journal of Chemical Physics. - AIP Publishing. - 157. 2022, 8, 084706-1 - 084706-8 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Flüssigkeitsfilme , Verdampfung einer dünnen Wasserschicht , Schleudertrocknung , Trennungsdruck , Gleichgewichtszustand | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | fluid films , evaporation of a thin water layer , spin drying , disjoining pressure , Equilibrium | |
Bemerkung: |
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| OA-Lizenz | CC BY 4.0 |
