Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Mutschall, Doris ; Kaiser, Alena ; Lehmkau, Robin ; Ebermann, Martin ; Neumann, Norbert ; Mart, Clemens ; Eßlinger, Sophia ; Neuber, Markus ; Weinreich, Wenke ; Hiller, Karla ; Seiler, Jan ; Großmann, Toni D. ; Shaporin, Alexey ; Günther, Wolfgang
Mikromechanisch strukturierter, CMOS-kompatibler pyroelektrischer Detektor auf der Basis von dotiertem HfO2 in Trenchzellen
Micromechanically patterned CMOS-compatible pyroelectric detector based on doped HfO2 in trench cells
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, nicht referiert | |
| ISBN/ISSN: | 978-3-8007-5656-8 ; 978-3-8007-5657-5 ; 1742-6596 | |
| URL/URN: | http://www.vde-verlag.de/proceedings-de/455656035.html | |
| Quelle: | MikroSystemTechnik Kongress 2021, 2021 Nov 08 - 2021 Nov 11, Stuttgart-Ludwigsburg (Germany), S. 151-154. - VDE e.V., 2021. - Mikroelektronik/Mikrosystemtechnik und ihre Anwendungen Innov. Produkte für zukunftsfähige Märkte | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Trenchstrukturen , modifizierte Hafniumoxidschicht , Mikromechanische Strukturierung der Silizium-Wafer | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Trench structures , modified hafnium oxide layer , Micromechanical structuring of silicon wafers |
