Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Jeschke, Janine ; Möckel, Stefan ; Korb, Marcus ; Rüffer, Tobias ; Assim, Khaybar ; Melzer, Marcel ; Herwig, Gordon ; Georgi, Colin ; Schulz, Stefan E. ; Lang, Heinrich*
Chemical vapor deposition of ruthenium-based layers by a single-source approach
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut 1: | Professur Anorganische Chemie | |
| Institut 2: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | Print + online 2016: ISSN 2050-7526 ; Online only 2016: ISSN 2050-7534 | |
| URL/URN: | http://dx.doi.org/10.1039/C5TC03930D ; http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-220047 | |
| Quelle: | In: Journal of Materials Chemistry C. - Royal Society of Chemistry. - 4. 2016, S. 2319 - 2328 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Chemical vapor deposition , ruthenium-based layers , single-source approach | |
| OA-Lizenz | CC BY 3.0 |
