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Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz


Dhakal, Dileep ; Assim, Khaybar ; Lang, Heinrich ; Bruener, Philipp ; Grehl, Thomas ; Georgi, Colin ; Waechtler, Thomas ; Ecke, Ramona ; Schulz, Stefan E. ; Gessner, Thomas

Atomic layer deposition of ultrathin Cu2O and subsequent reduction to Cu studied by in situ x-ray photoelectron spectroscopy


Universität: Technische Universität Chemnitz
Institut 1: Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM)
Institut 2: Professur Anorganische Chemie
Institut 3: Professur Smart Systems Integration
Dokumentart: Artikel in Fachzeitschrift, referiert
ISBN/ISSN: ISSN: 0734-2101 E-ISSN: 1520-8559
URL/URN: http://dx.doi.org/10.1116/1.4933088
Quelle: In: Journal of Vacuum Science & Technology A. - New York : American Institute of Physics. - 34. 2016, 1, 01A111 1 - 12
Freie Schlagwörter (Englisch): atomic layer deposition , ALD , Metallic thin films , X-ray photoelectron spectroscopy

 

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