Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Gottwald, Markus* ;
Kohlschreiber, Pia ;
Kathiriya, Divyang G. ;
Schermer, Sebastian ;
Helke, Christian ;
Sendel, Mandy ;
Biller, Harry ;
Reuter, Danny
Finders, Jo ; Stolberg, Ines
Development of an intra-level mix-and-match lithography process using negative-tone photoresist AR-N 4400-10 S4 to combine i-line stepper and electron beam exposure
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 978-151069453-8 ; ISSN: 0277-786X ; E-ISSN: 1996-756X | |
| DOI: | doi:10.1117/12.3066030 | |
| URL/URN: | https://www.scopus.com/pages/publications/105024969309?origin=resultslist | |
| Quelle: | 0th European Mask and Lithography Conference, EMLC 2025, 2025 Jun 16-18, Dresden (Germany). - SPIE, 2025. - Proceedings of SPIE ; 13787 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | CAR , complimentary lithography , electron beam lithography , hybrid lithography , i-line stepper , lithography , mix-and-match lithography , photoresist |
