Ergebnis der Datenbankabfrage
| Nr. | Titel | Autor | Jahr |
|---|---|---|---|
| 1 | Development of an intra-level mix-and-match lithography process using negative-tone photoresist AR-N 4400-10 S4 to combine i-line stepper and electron beam exposure | Gottwald, Markus* et al. | 2025 |
| 2 | Evaluation of HSQ resist Medusa 84 SiH regarding suitability for various process windows | Kohlschreiber, Pia et al. | 2025 |
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| Anzahl der Dokumente: | 2 |