Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Jäckel, Linda* ; Zienert, Andreas ; Zeun, Annekathrin ; Seidel, Anna-Sophie ; Schuster, Jörg
Surface chemistry models for low temperature Si epitaxy process simulation in a single-wafer reactor
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | Online ISSN 1520-8559 ; Print ISSN 0734-2101 | |
| DOI: | doi:10.1116/6.0003340 | |
| Quelle: | In: Journal of Vacuum Science & Technology A. - American Vacuum Society. - 42. 2024, 2 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Epitaxy , Vapor phase deposition , Chemical reaction dynamics , Silicon , Surface reactions , Computational fluid dynamics | |
Bemerkung: |
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| OA-Lizenz | CC BY 4.0 |
