Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Zimmermann, Sven* ;
Haase, Micha ;
Lang, N. ;
Röpcke, J. ;
Schulz, Stefan E. ;
Otto, Thomas
Bonitz, M.
The role of plasma analytics in leading‐edge semiconductor technologies
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut 1: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Institut 2: | Professur Smart Systems Integration | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 1521-3986 | |
| DOI: | doi:10.1002/ctpp.201700086 | |
| URL/URN: | https://doi.org/10.1002/ctpp.201700086 | |
| Quelle: | In: Contributions to Plasma Physics 2018. - WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim. - 58. 2018, 5, S. 367 - 376. - Special Issue: 18th Topical Conference for Plasma Technology February 20th – 22nd, 2017, Göttingen, Germany | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | highest integrated circuits , microelectronic technologies , plasma diagnostics , plasma etching , plasma processing |
