Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Nadimi, Ebrahim ; Roll, Guntrade ; Kupke, Steve ; Öttking, Rolf ; Plänitz, Philipp ; Radehaus, Christian ; Schreiber, Michael ; Agaiby, Rimoon ; Trentzsch, Martin ; Knebel, Steve ; Slesazeck, Stefan ; Mikolajick, Thomas
The Degradation Process of High-k SiO2/ HfO2 Gate-Stacks: A Combined Experimental and First Principles Investigation
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Theoretische Physik (-Theorie ungeordneter Systeme-) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0018-9383 | |
| URL/URN: | doi:10.1109/TED.2014.2313229 | |
| Quelle: | In: IEEE Transactions on Electron Devices. - 61. 2014, 5, S. 1278 - 1283 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Density functional theory (DFT) , high-k, leakage current , MOSFETs , nonequilibrium Green’s function (NEGF) , oxygen vacancies , stress-induced leakage current (SILC) |
