Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Kohlschreiber, Pia ;
Gottwald, Markus ;
Helke, Christian ;
Biller, Harry ;
Sendel, Mandy ;
Reuter, Danny
Finders, Jo ; Stolberg, Ines
Evaluation of HSQ resist Medusa 84 SiH regarding suitability for various process windows
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0277-786X | |
| DOI: | doi:10.1117/12.3066045 | |
| Quelle: | 40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025), 2025 June 16-18, Dresden, Germany. - SPIE, 2025. - 13787 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | Rasterkraftmikroskopie , Chemie , Elektronenstrahllithographie , Ionen , Metalle , Metrologie der kritischen Dimensionen , Ätzen | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Atomic force microscopy , Chemistry , Electron beam lithography , Ions , Metals , Critical dimension metrology , Etching |
