Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Haase, Micha ; Ecke, Ramona ; Schulz, Stefan E.
Requirements and challenges on an alternative indirect integration regime of low-k materials
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, nicht referiert | |
| URL/URN: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-207219 | |
| Quelle: | AMC 2015 – Advanced Metallization Conference, 2016 | |
| SWD-Schlagwörter: | Low-k-Dielektrikum , Opferschicht | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | ultra low-k dielectric, sacrificial layer , free standing metal lines , hybrid stack , gap fill |
