Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Waechtler, T. ; Oswald, S. ; Pohlers, A. ; Schulze, S. ; Schulz, S.E. ; Gessner, T.
Copper and Copper Oxide Composite Films Deposited by ALD on Tantalum-Based Diffusion Barriers.
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Smart Systems Integration | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 978-1-55899-992-3 , 1048-0854 | |
| Quelle: | Advanced Metallization Conference 2007, Mater. Res. Soc. Conf. Proc. AMC XXIII (2008) pp. 23-29 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | copper , copper oxide , ALD , diffusion barriers , tantalum |
