Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Herrmann, M. ; Richter, F. ; Schulz, S.E.
Study of Nano-mechanical Properties for Thin Porous Films through Instrumented Indentation : SiO2 Low Dielectric Constant Films as an Example.
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Smart Systems Integration | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0167-9317 | |
| URL/URN: | doi:10.1016/j.mee.2008.03.006 | |
| Quelle: | Materials for Advanced Metallization - MAM, 2008 Mar 2-5, Dresden (Germany); In: Microelectronic Engineering, 85 (2008) pp. 2172-2174 | |
| Freie Schlagwörter (Deutsch): | SiO2 , low dielectric | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | thin porous films , SiO2 , low dielectric |
