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Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz


Braun, Silvia* ; Wiemer, Maik ; Schulz, Stefan E.

Process Development of Aluminum Electroplating from an Ionic Liquid on 150 mm Wafer Level


Universität: Technische Universität Chemnitz
Institut: Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM)
Dokumentart: Artikel in Fachzeitschrift, referiert
ISBN/ISSN: 2072-666X (online)
DOI: doi:10.3390/mi15060746
URL/URN: https://www.mdpi.com/2072-666X/15/6/746
Quelle: In: Micromachines. - MDPI. - 15. 2024, 6, 746, S. 1 - 18
Freie Schlagwörter (Deutsch): Galvanik , Galvanische Abscheidung , Wafer-Level , Aluminium , Ionische Flüssigkeiten , Mikrosystemtechnik , Mikroelektronik , Musterplattierung , Keimschicht
Freie Schlagwörter (Englisch): electroplating , electrodeposition , wafer level , aluminum , ionic liquids , microsystem technology , microelectronics , pattern plating , seed layer

 

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