| Nr. | Titel | Autor | Jahr |
|---|---|---|---|
| 1 | Novel negative tone spray-coatable photoresist for photolithography processing over high topographical steps | Arnold, Markus et al. | 2017 |
| 2 | Spray-coatable negative photoresist for high topography MEMS applications | Arnold, Markus* et al. | 2017 |
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