Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Arnold, Markus ; Voigt, Anja ; Haas, Sven ; Schwenzer, Falk ; Schwenzer, Gunther ; Reuter, Danny ; Gruetzner, Gabi ; Hiller, Karla
Novel negative tone spray-coatable photoresist for photolithography processing over high topographical steps
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Konferenzbeitrag, nicht referiert | |
| ISBN/ISSN: | 978-3-95735-057-2 | |
| Quelle: | Smart Systems Integration Conference 2016 (SSI), Cork (Ireland), 2017 Mar 08-09; Proceedings, pp 217-224. - Auerbach/V. : Verlag Wissenschaftliche Scripten, 2017 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | lithography , photolithography , spray coating |
