Ergebnis der Datenbankabfrage
Nr. | Titel | Autor | Jahr |
---|---|---|---|
1 | Moderne Aspekte in der Materialwissenschaft | Jakob, Alexander et al. | 2009 |
2 | Determination of Youngs modulus and yield stress of porous low-k materials by nanoindentation | Herrmann, Matthias et al. | 2006 |
3 | Tri-n-Butyl-Phosphan-Silber(I)-Komplexe mit Carboxylat-, Troponolat- bzw. N-Hydroxyphthalimid-Teilstrukturen; Synthese und Verwendung als Spin-On-Precursoren | Jakob, Alexander et al. | 2005 |
4 | Contributions to the Static Dielectric Constant of Low-k Xerogel Films Derived from Ellipsometry and IR Spectroscopy | Himcinschi, C. et al. | 2004 |
5 | Electrical and Mechanical Properties of Porous Silicon Dioxide as an Ultra Low k Dielectric | Frühauf, S. et al. | 2003 |
6 | Ellipsometric Study of the Change in the Porosity of Silica Xerogels after Chemical Modification of the Surface with Hexamethyldisilazane | Himcinschi, C. et al. | 2002 |
7 | Hydrophobisation Process for Porous Low-k Dielectric Silicon Layers | Frühauf, S. et al. | 2002 |
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Anzahl der Dokumente: | 7 |