Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Azhniuk, Yu. M.* ; Schäfer, P. ; Gomonnai, Alexander V. ; Misiuk, A. ; Prujszczyk, M. ; Zahn, Dietrich R. T.
MicroRaman Studies of Implantation- induced amorphization of Si and Subsequent Regrowth Under High-Pressure and High Temperature Treatment
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Halbleiterphysik | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0031-8965 | |
| DOI: | doi:10.1002/pssa.201026248 | |
| Quelle: | In:Physica Status Solidi. A: Applications and Materials Science. - 207. 2010, 11, S. 2432 - 2436 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | amorphization , ion implantation , Raman scattering , silicon , strain |
