Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Chemical Mechanism of AlF3 Etching during AlMe3 Exposure: A Thermodynamic and DFT Study
Chemischer Mechanismus des AlF3-Ätzens bei AlMe3-Belichtung: Eine thermodynamische und DFT-Studie
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Zentrum für Mikrotechnologien (ZfM) | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | Print Edition ISSN: 1932-7447 ; Web Edition ISSN: 1932-7455 | |
| DOI: | doi:10.1021/acs.jpcc.2c00158 | |
| Quelle: | In: The Journal of Physical Chemistry C. - Washington, DC : American Chemical Society. - 126. 2022, 17, S. 7410 - 7420 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Thermal atomic layer etching (ALE) , etching of AlF3 by AlMe3 , thermal ALE of Al2O3 and other materials | |
Bemerkung: |
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