| Nr. | Titel | Autor | Jahr |
|---|---|---|---|
| 1 | ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems. | Waechtler, Thomas et al. | 2010 |
| 2 | Inhibition of enhanced Cu oxidation on ruthenium | Ding, S.-F. et al. | 2010 |
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