Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Kallis, Klaus ;
Horstmann, John-Thomas ;
Fiedler, Horst
Elsevier
Lithography independent high accuracy fabrication and characterization of next generation Nano-MOS-transistors with L = 25 nm and W = 75 nm
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0167-9317 | |
| URL/URN: | doi:10.1016/j.mee.2007.01.224 | |
| Quelle: | In: Microelectronic Engineering. - 84. 2007, 5 - 8, S. 1484 - 1487 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | CMOS-process , Nanostructure , Sub-50 nm-dimensions , Lithography , MOS-transistor , Quantum-effects |
