Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Goedel, Werner A. ; Vrublevsky, I. ; Parkoun, V. ; Sokol, V. ; Schreckenbach, J.
Dissolution behaviour of anodic oxide films formed in sulfanic acid on aluminium
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Physikalische Chemie | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0026-3672 | |
| Quelle: | In: Microchimica Acta. - 156. 2006, S. 173 - 179 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Porous alumina , barrier oxide layer , immobile space charges , oxide dissolution |
