Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Goedel, Werner A. ; Vrublevsky, I. ; Parkoun, V. ; Schreckenbach, J.
Dissolution behaviour of the barrier layer of porous oxide films on aluminium formed in phosphoric acid studied by a re-anodizing technique
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Physikalische Chemie | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0169-4332 | |
| Quelle: | In: Appl. Surface Science. - 252. 2006, S. 5100 - 5108 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | Porous alumina; Barrier oxide layer; Immobile space charge; Annealing; Dissolution rate; Re-anodizing |
