Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Goedel, Werner A. ;
Marx, Günter ;
Stöckel, S.
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., München
Mit SiBN beschichtete Substrate und Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
Kurzfassung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Substraten mittels Gasphasenabscheidung, bei dem in einer Reaktionskammer bei Atmosphärendruck und bei Temperaturen von 900 bis 1400°C auf den Substraten mindestens ein Silicium und Bornitrid enthaltendes Schichtsystem durch Inkontaktbringen des Substrates mit mindestens einer halogenfreien bororganischen Verbindung, mindestens einer halogenfreien Silicium-Verbindung und Ammoniak abgeschieden wird, und das beschichtete Substrat im Anschluss bei Temperaturen von 1000 bis 1600°C getempert wird. Ebenso betrifft die Erfindung ein derartig beschichtetes Substrat mit mindestens einer Gradientenschicht enthaltend Silicium, Bor und Stickstoff sowie einen Faserverbundwerkstoff, der eine keramische oder glaskeramische Matrix und ein beschichtetes Substrat in Form von Endlosfasern enthält.
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Institut: | Professur Physikalische Chemie | |
| Dokumentart: | Patent (Offenlegungsschrift, Patentschrift, Gebrauchsmusterschrift) | |
| Veröffentlichungsnummer: | DE102006013505B3 | |
| Veröffentlichungsdatum | 25.10.2007 |
