Eintrag in der Universitätsbibliographie der TU Chemnitz
Blaschke, D.* ; Munnik, F. ; Grenzer, J. ; Rebohle, L. ; Schmidt, H. ; Zahn, P. ; Gemming, Sibylle
A correlation study of layer growth rate, thickness uniformity, stoichiometry, and hydrogen impurity level in HfO2 thin films grown by ALD between 100°C and 350°C
| Universität: | Technische Universität Chemnitz | |
| Förderung: | Sonstiges | |
| Institut: | Professur Skalenübergreifende Modellierung von Materialien und Materialverbünden unter externen Einflussfaktoren | |
| Dokumentart: | Artikel in Fachzeitschrift, referiert | |
| ISBN/ISSN: | 0169-4332 | |
| DOI: | doi:10.1016/j.apsusc.2019.144188 | |
| Quelle: | In: Applied Surface Science. - Elsevier B.V. - 506. 2020, 144188 | |
| Freie Schlagwörter (Englisch): | HfO2 , hafnium oxide , ALD , atomic layer deposition , film growth , metrology |
